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          薄膜制備方法
          
						  
              按成膜機理分類，薄膜的制備方法可大致分為物理方法和化學方法兩大類。
              物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)是利用某種物理過程，如物質的熱蒸發或在受到粒子束轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質從原物質到薄膜的可控的原子轉移過程。物理氣相沉積的主要特點是:
              (1)需要使用固態的或者熔化態的物質作為沉積過程的原物質；
          
						  
						  
						  
						  
						  
						  
						
          
						 




					
          
				
          
				
          
			
          
		
          
	
          

          




          

	
	
		
		
		
		
		
		


		

		
		

	
	




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